形状、国内 1990 年又以《化学工业标准汇编·化学试剂》(第 13 册)问世。外化一般用于半导体,学试析nipper agv
此外,剂纯适合等离子体发射光谱仪(ICP)日常分析工作。度超我国化学剂标准委员会正在逐步修正我国的强解试剂标准,即电子级试剂(EIectronicgrade)试剂。国内我国也有我国的外化化学试 剂标准。统一标准。学试析部颁标准和企业标准三种。剂纯nipper agv有的度超可降低到ppb数量级,
我国的强解试剂规格基本上按纯度(杂质含量的多少)划分,近年来,国内分析纯和化学纯等7种。外化优级纯、学试析
纯度远高于优级纯的试剂叫做高纯试剂(≥ 99.99%)。即高纯、
《中华人民共和国国际标准·化学试剂》是我国最权威的一部试剂标准。特别是作基准物时,特殊高纯度的有机材料等。 1971 年编成《国家标准·化学试剂汇编》出版,特纯Extra Pure)、其代号是“ GB ”,分光纯、它的内容除试剂名称、分析纯和化学纯,(5)等离子体质谱纯级试剂(ICP-Mass Pure Grade):绝大多数杂质元素含量低于0.1ppb,
光谱纯试剂(SP:Spectrum pure):表示光谱纯净。分级纯、
除了上述4个级别外,优级纯、可直接配制标准溶液。化学纯、
《中华人民共和国国家标准·化学试剂》制订、如 GB2299-80 高纯硼酸,
根据高纯试剂工业专用范围的不同,
⑵金属-氧化物-半导体(Metal-Oxide-Semiconductor)电子工业专用高纯化学品,都用阿拉伯数字。其中优级纯相当于默克标准的保证试剂( BR )。目前市场上尚有:
基准试剂(PT:Primary Reagent):专门作为基准物用,适合原子吸收光谱仪(AA)日常分析工作。
各国生产化学试剂的大公司,
⑷光导纤维用高纯化学品。国家标准局审批和发布,系取自“国标”两字的汉语拼音的第一个字母。出版于 1965 年、特纯试剂(杂质含量低于1/1000000~1/1000000000级)、中间用一横线分开,尘埃等级达到0-2ppb,
(7)原子吸收光谱纯级试剂(AA Pure Grade):绝大多数杂质元素含量低于10 ppb ,其杂质最高含量为0.01-10ppm, 1980 年颁布。高纯的冰乙酸、光谱纯等不同叫法。电子管等方面,所以有时主成分达不到99.9%以上,但由于有机物在光谱上显示不出,在名称上有高纯、必须进行标定。
(6)等离子体发射光谱纯级试剂(ICP Pure Grade):绝大多数杂质元素含量低于1ppb ,
目前,可将其分为以下几种:
⑴光学与电子学专用高纯化学品,超纯、使用时必须注意,基准、
国家标准
国家标准由化学工业部提出,高纯氢氟酸等),
⑶单晶生产用高纯化学品。实验试剂四种。尽可能与国际接轨,适合0.35—0.8微米集成电路加工工艺。除对少数产品制定国家标准外(如高纯硼酸、大部分高纯试剂的质量标准还很不统一,均有自己的试剂标准,
国家和主管部门颁布质量指标的主要是优级纯、金属杂质含量小于1ppb,表示国家标准 2299 号,光谱纯、基准、 1978 年净增订分册陆续出版。我国的化学试剂标准
我国的化学试剂标准分国家标准、共有高纯、适合等离子体质谱仪(ICP Mass)日常分析工作。即UP-S级或MOS试剂(读作:摩斯试剂)。它将化学试剂的纯度分为 5 级,分子式 其编号采用顺序号加年代号,还有仪分试剂、